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抛光表面局部形成了较厚氧化膜电解液抛光工艺 |
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抛光表面局部形成了较厚氧化膜电解液抛光工艺技术 (1)若抛光工艺丧失抛光功能,甚至发生了腐蚀现象,这多半是由于电路接触不良,或断路状态无电解作用,或所用的硫酸(工业级)杂质太多。 (2)使用含铬电解液抛光工艺,若抛光表面局部形成了较厚氧化膜,影响了抛光表面的光亮度,这很可能是由于电解液中三价铬的含量太高(如超过5%)造成的。减少三价铬的较好办法,是采用大面积的阳极,进行通电处理,将三价铬转变为六价铬。 (3)造成电抛光工艺失效的主要原因之一,是电解液中铝离子积聚太多(如2.5%以上)。欲恢复电解液的抛光功能,只能是部分或全部更换新电解液。 (4)配制电解液的用水,应尽量使用含氯离子少于80mg/L的高纯水,或去离子水。以免电解液中存在过多的氯离子影响抛光质量。有文献指出,当电解液中氯离子含量达到0.1%一1.0%时,抛光表面易出现点状腐蚀。 (5)在抛光具有较深凹孔的制件时,被抛光的凹孔表面的光亮度,往往不如平面和凸面。这时可采用特制的象形辅助阴极,以强化较深凹孔表面的电力线,提高凹孔表面的抛光光亮度。例如闪光机回光罩等的电抛光。 (6)铝质矿灯反射器的电抛光,造成点状腐蚀的原因大多是化学除油污工艺不当。该制件的加工工艺为机械抛光一化学除油污—>电抛光。其中机械抛光的目的,是去除制件表面的划伤,及明显的固体沾污等。但在机械抛光过程中,被抛光表面又会沾污上不少抛光膏,这些抛光膏中含有不少非皂化性矿物油。因此,在通用的碱性化学除油污溶液中,欲通过皂化和乳化作用达到完全彻底除油污的工艺目的,是不太容易的
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