上海市高新技术企业 高新技术成果转化项目 上海市计量制造许可单位 CQC ISO9001:2008 质量管理体系 上海硬度计技术-低价质高,造型精美,功能出色的优质硬度计制造商
机械抛光:抛光的目的就是要尽快地把磨光工序留下的变形层除去,并使抛光产生的变形层不影响显微组织的观察。 抛光操作的关键是要设法得到大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层,同时要使抛光产生的变形层不致影响终观察到的组织,即不会产生假象。这两个要求是有矛盾的,前者要求使用较粗的磨料,但会使抛光变形层较深;后者要求使用细的磨料,但抛光速率较低,解决这个矛盾的好办法就是把抛光分为两个阶段来进行。首先是粗抛,目的是除去磨光的变形层,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛本身形成的变形层是次要的考虑,不过也应尽可能小,其次是精抛,其目的是除去粗抛产生的变形层,使抛光损伤减到小。
本文关键词:显微组织,观察,机械抛光
相关产品: 抛光机,金相抛光机,机械抛光
SitemapX SitemapX SitemapX Xenu