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电镜的分辨率较光学布氏硬度试验机更高-集成电路技术研究
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电镜的分辨率较光学布氏硬度试验机更高-集成电路技术研究 亚微米技术的主要受益者将是用户。品种范围更为广泛、价格极为低廉的微处理器、微型计算机、存贮器和其它大规模集成电路器件将会投入市场。无论双极型注入逻辑还是MOS器件的亚微米技术都进展迅速。 不断成熟的集成电路技术所出现的主要突变是基于不再受可见光或紫外光限制的制造方法。正象电子布氏硬度试验机的分辨率比光学布氏硬度试验机更优越一样,电子束技术亦将对集成电路工业产生重大的影响。电子柬技术的优点是电子的波长要比光的波长短得多。目前,电子束技术与X射线技术竟相争辉。X射线的优点在于它沿直线传播,不象电子束那样需要真空,这样就可简化生产技术。 亚微米技术对集成电路生产厂的影响举足轻重。亚微米技术可应用于目前生产的产品,以降低成本。半导体性能的基本标准之一是每片硅片的净合格管芯数。对今天的许多产品来说,亚微米技术将显示其优越性。因为在每片硅片上可制作更多的电路,成品率也可提高,所以在相同功能基础上每片硅片的净合格管芯就增加了。 亚微米技术的研究和生产技术的开发一般是由目前在集成电路工业中尚未居领先地位的公司进行的。在集成电路市场上通常被认为是无足轻重的国际商业机器公司、北方电信公司和休斯公司在亚微米研究方面取得了重大的成果。贝尔实验室、西喇及其它类似研究机构的内部研究工作也可能会对集成电路商业市场产生间接的影响。一个明显的例外是得克萨斯仪器公司所进行的研究,该公司致力于亚微米技术的早期应用和生产。

 


 
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