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难熔化合物的单晶、玻璃和熔融陶瓷材料研究硬度计
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难熔化合物的单晶、玻璃和熔融陶瓷材料研究硬度计非金属难熔化合物的单晶、玻璃和熔融陶瓷材料,与金属、半导体和塑料构成了现代材料科技发展的基石。难熔非金属材料广泛应用于光学仪器、激光和微波激射器件、冶金设备和玻璃熔炉的难熔部件、电热和电子设备元件,以及磁水力发电机的电极和绝缘体等。 在此首先要明确一下“高温材料”的概念,我们认为它包括在高温条件下(≥1500"(2)使用的材料,以及在高温条件下得到的材料,而对于后者,通常不考虑其使用温度。基于氧化物、氟化物、氮化物、硼化物和其他一些化合物的单晶、玻璃和多晶陶瓷都属于此类材料。作为一个相对独立的研究领域,高温材料技术有它特有的研究方法、实验装备以及许多尚未解决的问题。 目前,这些问题主要包括:(1)制备新型单晶、玻璃和熔融陶瓷材料需要超过2000℃的生长温度,缺乏相应的高温技术工艺。(2)生长具有完全均质晶体结构的单晶。例如,制备用于磁畴存储器的钆镓石榴石单晶不能含有任何位错,用于激光的单晶和玻璃不能含有散射粒子或在折射率中存在偏离。要解决这些问题必须开发出完全可控的技术工艺参数。(3)获得高纯度的单晶、玻璃和熔融陶瓷;大部分激光晶体和玻璃中都不能含有超过10的负4次方%的杂质铁、铜、某些稀土元素以及其他杂质;光波导玻璃中光学活性杂质的含量不能超过10负6次方%;这些应用都需要开发出“特纯”制备技术工艺,以避免高纯度的原材料在制备过程中受到污染。(4)在一定的氧化或还原条件下获取材料。(5)得到足够量的熔体。(6)在小的自然资源消耗(能源、水)和产生少废物的条件下获得这些材料。 但是,大的困难并不在于单个问题的解决,而是如何解决上述所有问题的复合体。例如,在电弧熔融的工业过程中,可以轻而易举地产生高温条件,但问题是在制备过程中如何保证材料的化学纯度,以及如何获得特定的氧化或还原条件。相反,采用辐射炉熔炼可以很好地保持原材料的纯度,并获得必要的氧化或还原气氛,然而,其缺点是不能保证得到足够量的熔体。同样,我们很容易举出目前已知的其他制备高温材料技术存在的类似问题。

 


 
 
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