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抛光实验表面粗糙度-分析表面粗糙度和表面形貌 |
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抛光实验表面粗糙度-分析表面粗糙度和表面形貌 磁头的超精密抛光是存储介质行业一项十分重要的工作,用于产生一个平面度好、表面粗糙度值很小的表面,且只允许在磁头与存储介质间(如磁盘等)有很小的间隙,这项工作可以通过对几个加工参数优化得到,主要包括抛光剂的种类、抛光盘材料、抛光盘和工件的速度、抛光时间、抛光时施加给工件的压力等。 供了磁头抛光加工时材料去除率和表面粗糙度的实验数据,这两个参数由于反映了消费者需求,因此被磁头制造商们认为是重要的两个因素。在磁头的超精密抛光这个过程中,主要为了得到抛光剂类型与材料去除率间的关系,抛光剂的特征参数包括颗粒尺寸、浓度、数量等。 采用单晶和多晶磨粒的抛光剂对工件加工效果的影响规律。在超精密抛光时,改变抛光剂类型将改变加工特征,从而改变材料去除率和表面粗糙度。 对磁头超精密抛光进行研究时,首先要对磁头的表面粗糙度和材料去除率进行定性和定量分析。保持其他参数恒定,仅改变抛光剂类型,可根据消费者在批量、经济性、表面质量等方面的不同要求,制定出优的选择。 抛光实验时,保持其他几个参数(抛光盘材料、抛光盘表面粗糙度、时间、负载、速度、抛光剂的量)恒定,对四种不同抛光剂进行研究。实验时首先利用抛光盘进行加工,直至工件的粗糙度达到20~30微米,大凹度达到25微米。下一阶段实验是对抛光盘使用抛光剂时对工件的表面纹理进行研究,将12kg的负载施加到陶瓷环上,加工时间大约为99min。 将5.5kg的负载加到工件上,研磨加工时间大约为99min,然后将清洗和测量后的工件装入工件固定器,每批次加工6件,工件与工件间呈60度摆放,每批抛光大约12min,接着在清洗槽里用1%酒精试剂清洗,然后重新测量。完成这些后再利用原子力硬度计观察工件,分析表面粗糙度和表面形貌。
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